Estufa vertical VFS-4000

de recozimentode induçãode difusão

Este forno vertical de grande diâmetro para 4,5G/5,5G foi desenvolvido utilizando tecnologias de equipamento de fabrico de semicondutores para o fabrico de substrato de vidro. Este forno é adequado para processos de selagem e desidratação de frita orgânica de baixa compactação EL (OLED/AMOLED). Características O forno de difusão de semicondutores foi modificado para uma escala maior para o ecrã de ecrã plano Processamento de pressão normal e processamento de descompressão são possíveis Vários tipos de atmosferas de gás (oxidação, redução, neutro, corrosão, etc.) Tamanho máximo do substrato:1300 × 1500 mm Aquecedor LGO de grande escala tem excelentes características de temperatura Este forno vertical de grande diâmetro emprega um rigoroso controlo das características de temperatura, controlo da atmosfera e controlo de partículas, perícia no fabrico de semicondutores, para FPD. Os barcos de quartzo são utilizados para criar um ambiente de baixa partícula, sem metal, para permitir o tratamento térmico a vácuo a 10 ppm ou uma concentração mais baixa de O2. Este forno é adequado para recozimento por toque e outros materiais, recozimento por contacto, pós-cozimento e recozimento por activação.