Estufa de câmara CCBS-IR

de recozimentode induçãode infravermelho

A série CCBS-IR são fornos limpos do tipo de transferência de substrato único que utilizam um sistema de aquecimento IV. Podem realizar uma variedade de tratamentos térmicos para cristais líquidos de grande tamanho (LCD) e EL orgânicos (OLED) até à 10ª geração. Está também disponível um modelo de demonstração que processa IGZO e LTPS (polissilício de baixa temperatura) a 500°C. Características Factor de limpeza de alto nível Alta eficiência de aquecimento Excelente uniformidade de temperatura Capaz de controlar a atmosfera Factor de limpeza de alto nível A estrutura limpa que não gera pó, combinada com o controlo preciso da atmosfera do forno (patente adquirida), proporciona um alto nível de desempenho limpo. Estes fornos são também capazes de processar substratos de matriz que requerem um ambiente estritamente limpo. Alta eficiência de aquecimento É utilizado um sistema de aquecimento por infravermelhos distantes (IR) com eficiência de aquecimento superior, e é capaz de processamento de alta eficiência de todas as espessuras de película. É ideal para o processamento de filmes espessos, tais como camadas de alinhamento e filmes de passivação. Excelente uniformidade de temperatura Os aquecedores de painel IR adoptados proporcionam uma excelente uniformidade de temperatura. São capazes de aquecimento uniforme mesmo de substratos de grandes dimensões, como a 10ª geração. Capaz de controlar a atmosfera O gás nitrogénio pode ser injectado no forno para efectuar o tratamento térmico a baixas concentrações de oxigénio.