Estufa vertical VF-5100

de recozimentode oxidaçãode difusão

Este grande lote, difusão, LPCVD, forno vertical realiza um tratamento de 4 a 8 polegadas de wafer de ultra-alta temperatura. O sistema pode ser configurado de forma flexível para permitir à sua linha de produção processar uma variedade de produtos. Este forno sobressai no fabrico de dispositivos de potência. Características A configuração flexível do equipamento está disponível para várias linhas de produção podem ser seleccionadas 50 a 150 bolachas de tamanho de lote estão disponíveis bolachas de 4 a 8 polegadas 4 a 8 stocks de cassetes Excelente controlo de temperatura desde a gama de temperaturas baixas a médias altas utilizando um aquecedor LGO Transferência de wafers de alta velocidade utilizando um único/quinto robot de manipulação de wafers Equipado com um sistema de controlo de alto desempenho de fácil utilização pelo operador Este forno vertical para bolachas de 4 a 8 polegadas satisfaz flexivelmente as necessidades da sua linha de produção. Pode escolher o número de bolachas a processar de 50 a 150. Pode escolher o aquecedor de um aquecedor LGO, aquecedor de disilicida de molibdénio (MoSi2) e aquecedor de carbono para que o forno possa ser utilizado não só para recozimento a baixa temperatura, nitreto (Si3N4), polissilício (poli Si) e outro material LPCVD, processamento de oxidação e difusão, mas também para a oxinitretação de silício com dispositivo de energia SiC, recozimento de activação e outro processamento a ultra alta temperatura.