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Máquina de deposição por pulverização catódica de magnétron PROvappor evaporação térmicaassistida por feixes de íonsde camadas finas
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Características
- Tecnologia
- por pulverização catódica de magnétron, por evaporação térmica, assistida por feixes de íons
- Tipo de deposição
- de camadas finas
- Outras características
- a vácuo
- Aplicações
- para a indústria da microeletrônica, para aplicações fotovoltaicas
Descrição
- Sistema integrado do porta-luvas
- Solução compacta e rentável
- Desenho de configuração fácil
- Co-deposição
- Uniformidade até +/-3 % (com desenho geométrico específico até +/1 %)
- Dois tamanhos padrão: PROvap 4G e PROvap 5G
- Até 8 fontes de deposição possíveis
- Tamanho do substrato até 100x100 mm ou diamante. 100 mm (4") para PROvap 4G
- Tamanho do substrato até 150x150 mm ou diamante. 150 mm (6") para PROvap 5G
- OLED/ Electrónica Orgânica
- OPV
- Pilhas
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* Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.