- Produtos
- Catálogos
Máquina de deposição por pulverização catódica de magnétron UNIvappor evaporação térmicaassistida por feixes de íonsde camadas finas
Guardar nos favoritos
Comparar
Características
- Tecnologia
- por pulverização catódica de magnétron, por evaporação térmica, assistida por feixes de íons
- Tipo de deposição
- de camadas finas
- Outras características
- a vácuo
- Aplicações
- para a indústria da microeletrônica, para aplicações fotovoltaicas
Descrição
- Sistema autónomo
- Solução compacta e rentável
- Desenho de configuração fácil
- É possível a co-deposição
- Uniformidade até +/-3 % (com desenho geométrico específico até +/1 %)
- Dois tamanhos padrão: UNIvap 4S e UNIvap 5S
- Até 8 fontes de deposição possíveis
- Tamanho do substrato até 100x100 mm ou diamante. 100 mm (4") para UNIvap 4S
- Tamanho do substrato até 150x150 mm ou diamante. 150 mm (6") para UNIvap 5S
- OLED/ Electrónica Orgânica
- OPV
---
Pesquisas relacionadas
- Máquina de revestimento
- Máquina de deposição PVD
- Máquina de deposição a vácuo
- Máquina de deposição de camadas finas
- Máquina de deposição por evaporação térmica
- Máquina de deposição para a indústria da microeletrônica
- Máquina de deposição assistida por feixes de íons
- Máquina de deposição para aplicações fotovoltaicas
- Máquina de revestimento de alta precisão
- Máquina de revestimento do tipo slot die
* Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.