Sensor de gás SF6 VKM2002985

microfeixe NDIRpara medição de processospara monitoramento de segurança de gases industriais

O hexafluoreto de enxofre continua a ser indispensável em muitas aplicações como gás vestigial, protetor ou isolante. Devido ao elevado efeito de estufa do SF6, o manuseamento responsável do gás é ainda mais importante. O sensor MicroFLOW SF6.100 Vol.-% é adequado para uma vasta gama de aplicações exigentes que requerem precisão e fiabilidade. CAMPOS DE APLICAÇÃO Indústria: O SF6 é utilizado em processos de gravação por plasma para criar padrões precisos em materiais semicondutores como o silício, o dióxido de silício e outros compostos. O gás é utilizado em câmaras especiais de gravura onde é convertido num plasma através da aplicação de energia de alta frequência. Este plasma reage então seletivamente com o material e permite a gravação ou remoção precisa de materiais num processo muito controlado e exato. Na produção de alumínio, o hexafluoreto de enxofre é utilizado como gás marcador para melhorar a eficiência do processo de produção e detetar potenciais problemas numa fase inicial. Também é utilizado nesta área para monitorizar a qualidade e a consistência do produto final. Tecnologia energética: No domínio do fornecimento de eletricidade, o SF6 é utilizado como gás isolante e meio de arrefecimento em comutadores e transformadores de alta tensão. A medição do hexafluoreto de enxofre é importante para identificar fugas numa fase inicial e para monitorizar o estado dos sistemas. EXACTIDÃO DA MEDIÇÃO O nosso sensor de gás NDIR obtém resultados precisos na medição e monitorização do hexafluoreto de enxofre. Com a linearização de 10 pontos, o desvio máximo da concentração de gás medida é inferior a um por cento em toda a gama de medição até 100 por cento em volume.