Sistema de litografia a laser Quantum X

Nanoscribe Quantum X é o primeiro sistema de litografia em escala de cinza de dois fótons do mundo para microfabricação sem máscara de microópticas refrativas e difrativas Experimente o novo Quantum X O novíssimo sistema Nanoscribe Quantum X foi projetado para a microfabricação de protótipos e mestres em processos de produção industrial. Este sistema de litografia sem máscara redefine a fabricação de microópticas de forma livre, matrizes de microlentes e elementos ópticos difractivos multi-níveis. O primeiro sistema de litografia em escala de cinza de dois fótons do mundo (2GL ®) combina o extraordinário desempenho da litografia em escala de cinza com a precisão e flexibilidade da tecnologia pioneira de Polimerização de Dois Fótons da Nanoscribe. O Quantum X oferece alta velocidade, total liberdade de desenho e a precisão necessária para a fabricação de aditivos para estruturas complexas que requerem alta precisão de forma e superfícies ultra-suaves. Processos rápidos e precisos de fabricação de aditivos reduzem drasticamente os ciclos de iteração do projeto e permitem uma microfabricação econômica. Litografia em escala de cinza de dois fótons Esta tecnologia revolucionária combina microfabricação aditivada com ajuste ultra-rápido do tamanho do voxel: A litografia em escala de cinza de dois fótons (2GL) abre caminho para a microfabricação ultra-rápida, precisa e de forma livre, sem comprometer a velocidade ou a precisão. O Quantum X controla o tamanho do voxel ao longo de um plano de varredura utilizando a modulação sincronizada da potência do laser em altas velocidades. Desta forma, são produzidas formas complexas e é possível alcançar alturas variáveis de características dentro de um campo de varredura.