Alinhador de máscara para wafers 200IR

O Alinhador de Máscaras OAI Modelo 200IR é um sistema de bancada que requer um espaço mínimo de sala limpa. É uma alternativa econômica para P&D ou escala limitada, produção piloto. Utilizando um sistema inovador de nivelamento por mancal de ar/vácuo, o substrato é nivelado rápida e suavemente, para o alinhamento paralelo da foto-máscara e contato uniforme através do wafer durante a exposição de contato. O Alinhador de Máscaras Modelo 200IR é capaz de resolução de um micron e precisão de alinhamento. Ele possui um módulo de alinhamento que apresenta conjuntos de inserções de máscara e mandris de troca rápida de pastilhas que permitem o uso de uma variedade de substratos e máscaras sem a necessidade de ferramentas para reconfiguração. O módulo de alinhamento incorpora micrômetros para os eixos X, Y e z. Esta máscara Aligner possui uma fonte de luz OAI confiável que fornece luz UV colimada em UV Próximo ou Profundo usando lâmpadas que variam em potência de 200 a 2000 watts. Os laços de realimentação óptica com sensor duplo estão ligados ao controlador de intensidade constante para fornecer controle de intensidade de exposição dentro de ±2% da intensidade desejada. As alterações podem ser feitas no comprimento de onda UV de forma rápida e fácil. O Alinhador de Máscaras Modelo 200IR é uma solução flexível e econômica para qualquer aplicação de alinhamento de máscaras de nível básico e exposição UV para MEMS, Microfluidos e NIL.