O sistema PhableR 100 é baseado na tecnologia fotolitográfica proprietária PHABLE (abreviatura para Photonics Enabler) desenvolvida pela Eulitha AG, que permite imprimir estruturas periódicas de alta resolução num sistema fotolitográfico de proximidade e sem contacto. A resolução obtida com o PhableR 100 é essencialmente a mesma de um sistema de litografia de projecção DUV, mas sem a complexa e cara óptica e mecânica. Por exemplo, grelhas lineares com meio passo de 150nm podem ser impressas com alta uniformidade com o novo sistema. Como vantagem adicional, a profundidade de foco praticamente ilimitada da imagem formada pelo sistema PhableR 100 significa que os padrões de alta resolução podem ser impressos com alta uniformidade mesmo em substratos não planos, que são comumente encontrados em aplicações fotônicas.
O sistema PhableR 100 pode expor substratos com diâmetros de até 100mm usando máscaras padrão da indústria de cromo sobre vidro ou de mudança de fase. A máscara e o substrato são carregados manualmente no sistema e o processo de exposição é controlado por um computador de bordo. Podem ser utilizados fotorresistências padrão i-line, tanto de tom positivo como negativo, que estão disponíveis em fornecedores comuns. Grelhas lineares ou curvas, padrões tipo cristal fotónico 2D com simetria hexagonal ou quadrada podem ser impressos com períodos de característica inferiores a 300 nm. O sistema também pode ser usado como uma máscara padrão - Alinhador em modo de proximidade ou de contato para imprimir estruturas em escala de mícrons.
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