Sistema de metrologia para wafers IMPULSE+

Plataforma metrológica integrada alimentada por soluções ópticas e de aprendizagem de máquinas líderes na indústria, combinando alta sensibilidade com elevado rendimento para aplicações CMP, deposição, etch e litho. Um padrão de metrologia integrado, o sistema IMPULSE+ oferece a máxima sensibilidade e precisão às excursões de processo CMP e permite aos fabricantes de dispositivos estabelecer soluções de controlo APC com feedback de alta precisão. Com o software de solução OCD que permite medições directas dentro do dispositivo e áreas activas, os utilizadores são capazes de monitorizar excursões de processos menores e optimizar os seus processos para maiores rendimentos. O sistema IMPULSE+ funciona em conjunto com as soluções de análise de software Atlas e OCD, permitindo a optimização de processos em vários módulos e um controlo de processos abrangente em toda a fábrica. O sistema IMPULSE+ é amplamente adoptado através de etapas chave na fabricação de DRAM, 3D-NAND, sensor de imagem CMOS e dispositivos de fundição/lógica.