Alvo de pulverização de tungstênio

alvo de pulverização de tungstênio
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Características

Especificações
de tungstênio

Descrição

Alvos de pulverização catódica de tungsténio As camadas de tungsténio são componentes dos transístores de película fina utilizados nos ecrãs TFT-LCD. São utilizadas sempre que são necessários grandes formatos de ecrã, uma definição de imagem particularmente elevada e contrastes optimizados. Mas o tungsténio é também utilizado como barreira de difusão e como conetor condutor na indústria microeletrónica. Utilizando o maior laminador a quente do mundo para metais refractários, a Plansee é capaz de produzir o maior alvo de pulverização de tungsténio do mundo. A vantagem para si dos grandes formatos: O processo de revestimento é mais estável e as camadas depositadas são de maior qualidade. Graças aos processos especiais de moldagem, os alvos de pulverização catódica de tungsténio da Plansee têm uma densidade de quase 100 %. Como resultado, o seu processo beneficia de um nível particularmente elevado de condutividade e de poupança de tempo devido às excelentes velocidades de pulverização.

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