Máquina de deposição PVD PL711

A PL711 é uma unidade compacta de revestimento por pulverização catódica baseada na tecnologia HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering). Tem dois cátodos HiPIMS planos e permite depositar revestimentos seleccionados de nitreto e carbono (DLC2, DLC3) utilizando processos altamente produtivos. O plasma denso com elevada ionização no carrossel produz revestimentos homogéneos e uma elevada taxa de deposição. Os revestimentos do PL711 proporcionam excelentes superfícies lisas, mantendo uma elevada densidade, dureza e uma excelente aderência. Tecnologia Uma unidade de revestimento PL711 utiliza 2 cátodos de pulverização plana com tecnologia HiPIMS. Processos de gravação Na unidade de revestimento PLATIT PL711 podem ser utilizadas várias tecnologias de gravura, oferecendo várias vantagens: LGD® (Lateral Glow Discharge) Gravura por plasma com árgon, descarga luminescente Gravura de iões metálicos (Ti, Cr) Tipos de deposição Revestimentos de nitreto por pulverização catódica Processos reactivos e não reactivos Alvos: Ti, Cr Temperatura de revestimento até 350°C Sputter Cr e PECVD a-C:H:Si DLC2 (revestimento PECVD) Alvos: Cr Temperatura do revestimento 180-220°C Tempos de carga e de ciclo Volume de revestimento: máx. ø600 x H805mm Altura do revestimento com espessura de revestimento definida: máx. 500 mm Carga: máx. 250 kg, peso superior a pedido Lotes/dia: 2 Sistemas modulares de carrossel 3 eixos ou 6 eixos ou 9 eixos Software PLATIT SmartSoftware (sistema PC e PLC) Operação e manutenção simples Interface de utilizador moderna com navegação por menus no ecrã tátil Visualização do processo em tempo real, incluindo registo e gestão de dados Controlo manual e automático do processo Possibilidade de diagnóstico e manutenção remotos