Sistema de recuperação de gás ArgonØ ™

com aspiração

O ArgonØ ™ recicla gás em circuito fechado a partir de um número limitado de ferramentas de processo, o que dá a grande vantagem sobre as potenciais instalações de instalações amplas de fácil e simples reconversão em fábricas de wafer existentes, bem como permite uma instalação faseada, em linha com as ferramentas de processo, em novas instalações "ground up". O ArgonØ ™ recicla >95% dos gases de escape do forno de volta ao processo a níveis de pureza que excedem os requisitos do Semi PV6-1110, removendo 1.000s de ppm de contaminação no processo. O ArgonØ ™ foi concebido para recuperar, purificar e reciclar o gás de purga dos fornos de vácuo, tanto CZ como DS, utilizado para cultivar lingotes de silício para posterior fabrico em células solares cristalinas. O sistema lida exclusivamente com bombas de vácuo seladas a óleo e secas, utilizadas para evacuar os fornos, e utiliza tecnologia desenvolvida em conjunto com a Universidade de Cambridge que permite taxas de reciclagem de pelo menos 95%. A pureza do gás Argon reciclado excede o SEMI PV6-1110. O sistema é Ponto de Utilização e pode ser ligado a múltiplos fornos de vácuo, sujeito a um limite máximo de fluxo de reciclagem de aproximadamente 15 Nm3/h, permitindo uma adaptação directa aos fornos de vácuo actuais juntamente com uma instalação faseada, em linha com a instalação dos fornos de vácuo, em novos estabelecimentos. Com um retorno do investimento (ROI) de 2-3 anos, o ArgonØ ™ representa uma excelente relação custo-benefício e onde o hélio também é reciclado, o ROI melhora ainda mais para tipicamente 6-12 meses. Além disso, o ArgonØ ™ reduz a pegada de CO2 de um forno de vácuo típico em 3-5 toneladas por ano, juntamente com melhorias na segurança do abastecimento.