Para processos químicos húmidos de semicondutores em várias etapas, a RENA oferece uma bancada húmida semi-automatizada flexível e compacta, a "Revolution". Esta plataforma consiste num robusto robô rotativo central integrado e até 5 tanques de processo localizados à volta do robô. A "Revolution" é a solução ideal, com uma pegada mínima e de baixo custo para aplicações que requerem uma sequência de processos em várias etapas. Permite o tratamento de superfícies de bolachas semicondutoras, incluindo gravação, limpeza e remoção de resistências, tanto em aplicações FEoL como BEoL.
A "Revolution" proporciona um controlo e uma monitorização superiores do processo através da utilização do software IDX Flexware. O IDX Flexware oferece características e capacidades vantajosas. Com base nos requisitos do cliente, podem ser incorporadas nesta estação química configurações especializadas de tanques de processo, por exemplo, tanques patenteados de gravação de metal e de elevação de metal. Para processos secos a secos, podem ser integrados os secadores patenteados Genesis Marangoni.
Todos os sistemas RENA são de fácil manutenção e estão em conformidade com a interface SECS/GEM do anfitrião de fábrica.
Características e vantagens
Capacidades de secagem a seco
tamanhos de wafer de 100 mm a 200 mm
Software de controlo IDX Flexware
Sequências de várias etapas
Múltiplas tecnologias proprietárias
Ecrã tátil HMI
Robô rotativo robusto
Opções de interface SECS/GEM
Mini-ambiente como opção
Versão em aço inoxidável para aplicações com solventes
Flexível e atualizável
Adaptado às especificações do cliente
Redução do uso de produtos químicos e água DI
Custos de instalação mais baixos
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