video corpo

Sistema de limpeza de tratamento por via úmida Inception
por aspersãocom solventepor corrosão

Sistema de limpeza de tratamento por via úmida - Inception  - RENA Technologies GmbH - por aspersão / com solvente / por corrosão
Sistema de limpeza de tratamento por via úmida - Inception  - RENA Technologies GmbH - por aspersão / com solvente / por corrosão
Sistema de limpeza de tratamento por via úmida - Inception  - RENA Technologies GmbH - por aspersão / com solvente / por corrosão - imagem - 2
Sistema de limpeza de tratamento por via úmida - Inception  - RENA Technologies GmbH - por aspersão / com solvente / por corrosão - imagem - 3
Sistema de limpeza de tratamento por via úmida - Inception  - RENA Technologies GmbH - por aspersão / com solvente / por corrosão - imagem - 4
Guardar nos favoritos
Comparar
 

Características

Tecnologia
por aspersão, com solvente, por corrosão
Modo de funcionamento
automático
Aplicações
de processo, para wafers
Outras características
compacto, de aderência, de tratamento por via úmida

Descrição

O RENA Inception, o sistema compacto e semi-automatizado de processamento de bolacha única, é uma solução ideal para processos de limpeza química húmida, gravação e resistência. Esta plataforma permite a transição da I&D para a produção piloto no fabrico de semicondutores. O Inception pode ser utilizado para aplicações ácidas em FEoL, bem como para aplicações com solventes em BEoL. Proporciona uma uniformidade de gravação superior <= 1% dentro do wafer, de wafer para wafer e de lote para lote. O Inception consiste em braços de pulverização de movimento duplo com linhas químicas separadas que, em conjunto com a conceção de vários tanques, proporciona características de processamento em várias etapas. Está disponível uma variação de mandris para diferentes tamanhos de bolacha e substrato para permitir uma configuração fácil para diferentes aplicações. O software IDX Flexware da RENA oferece muitas características vantajosas para o controlo e monitorização do processo. Todos os sistemas RENA são compatíveis com a interface SECS/GEM do anfitrião de fábrica. Características e vantagens Wafers de até 200 mm e máscaras de até 7 x 7 A uniformidade de gravação excede os sistemas em lote Manuseamento manual ou automatizado de bolachas Porta de carga simples ou dupla tanque de processo químico de 2 a 4 Controlos de concentração hiper precisos (ABB, Horiba, CI Semi) Capacidade de pico de alta precisão (Chemical & DI) Compensação química automática para perdas Pegada pequena

---

* Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.