Deposição de camada de óxido de túnel, i-Poly e D-poly para células solares TOPCon.
- Características do processo de baixa pressão e de parede quente, com melhor uniformidade da película e boa compactação.
- Processo LPCVD, substratos densamente carregados têm pouco efeito sobre a taxa de revestimento, com grande capacidade de carga num único tubo.
- Mais zonas de temperatura para garantir a uniformidade entre os wafers de forma fiável.
- Entrada de ar segmentada ajustável de forma independente para compensar o efeito de esgotamento do fluxo de ar.
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