Impurezas removidas: N2, Ar, O2, CO, CO2, H2O, CH4
- Processo de purificação: adsorção criogénica
- Princípio: O gás passa através da camada adsorvente a uma temperatura muito baixa.
- Principal domínio de utilização: mobilidade, equipamento fotovoltaico, indústria do gás, indústria de semicondutores..
Informações técnicas:
- Pressão: até 380 barg
- Nível de impurezas à saída: < 10 ppb
- Versão semi-automática ou automática (HMI/PLC)
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