Analisador de gás DF-745
de monitoramentode umidadede vestígios

Analisador de gás - DF-745 - SERVOMEX - de monitoramento / de umidade / de vestígios
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Características

Objeto da medição
de gás
Âmbito de utilização
de monitoramento
Mensurando
de umidade, de vestígios
Configuração
integrável, compacto
Tecnologia
TDL

Descrição

O TDL DF-745 mede a humidade para controlos de gás UHP Utilizando a tecnologia de Laser de Díodo Sintonizável (TDL) líder da indústria, o DF-745 fornece medições de traços e ultra-traços de humidade para verificações de gases electrónicos de pureza ultra-alta (UHP) em processos de fabrico de LED/LCD. Medições flexíveis de traço e ultra-traço TDL Uma solução sem compromissos Manutenção simples e custos contínuos reduzidos O DF-745 fornece medições de traços e ultra-traços de contaminantes de humidade para processos de fabrico de LED/LCD. Capaz de monitorizar vários gases de fundo, proporciona um desempenho excecional e flexibilidade operacional numa unidade compacta. Com um design de hardware/software inteligente e robusto, este analisador pode ser facilmente deslocado de porto para porto, eliminando virtualmente os tempos de paragem frequentemente associados a estas aplicações. Oferecendo um Limite Inferior de Deteção (LDL) de 1 parte por bilião (ppb), o DF-745 proporciona medições de linha de base ultra fiáveis e uma rápida velocidade de resposta. Uma célula Herriott robusta evita a perda de refletividade do espelho, enquanto o contacto da humidade com os componentes ópticos é minimizado, garantindo uma medição precisa. O desvio zero prolonga os intervalos de calibração, enquanto a manutenção contínua mínima proporciona Medições flexíveis de traço e ultra-traço TDL Os modernos processos de fabrico de LCD e LED requerem uma medição de qualidade ultra-traço para contaminantes de humidade em gases de grau eletrónico de elevada pureza. Numa aplicação tão específica, os utilizadores necessitam de uma análise capaz de fornecer limites de deteção de elevada precisão e ultra-baixos em vários gases de fundo.

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