Analisador de oxigênio DF-760E

de hidrogêniode monitoramentode vestígios

Concebido para aplicações de controlo de qualidade em gases a granel UHP, o analisador compacto DF-760E é uma solução única para a medição dupla de vestígios e ultra-vestígios de humidade (H2O) e oxigénio (O2). Medições de traço/ultra-traço TDL de alta estabilidade Uma solução sem compromissos Manutenção simples e custos contínuos reduzidos Oferecendo uma solução integrada compacta para a monitorização simultânea de vestígios de humidade e oxigénio, o DF-760E é um analisador concebido para monitorizar gases a granel UHP utilizados no fabrico de placas de circuitos integrados. Combinando as propriedades líderes do sector do sensor coulométrico não esgotável da Servomex e a robusta tecnologia de laser de díodo sintonizável (TDL) numa única unidade compacta, o DF-760E mede níveis ultrabaixos de contaminantes de H2O e O2 em misturas de gases de fundo de azoto (N2), hidrogénio (H2), hélio (He), O2 e árgon (Ar) (H2O apenas em O2). Oferecendo Limites Inferiores de Deteção (LDL) excecionalmente baixos, líderes na indústria, de 100ppt (H2O) e 45ppt (O2), o DF-760E proporciona uma velocidade de resposta rápida, estabilidade insuperável e imunidade a danos causados por ácidos vestigiais, tornando-o ideal para verificação da qualidade e deteção de fugas em aplicações FAB de semicondutores. Este desempenho de medição incomparável é apoiado por um design de baixa manutenção, fornecido através das tecnologias de deteção resilientes de desvio zero que não requerem calibração contínua. Quando se trabalha no fabrico de placas de circuitos integrados, o controlo de qualidade do gás UHP de grau eletrónico é crucial.