A fonte de alimentação de alta tensão EBL da Wisman foi concebida para aplicações de feixe de electrões de precisão, tais como nanolitografia de semicondutores, micro ótica e trabalho com máscaras de desenvolvimento. Possui ondulação ultra-baixa e excelentes especificações de estabilidade, o que é muito adequado para aplicações com exigências muito rigorosas. Fornece uma gama selecionável de corrente de saída baixa e corrente de saída alta.
A parte de alta tensão do encapsulamento sólido elimina quaisquer problemas de manutenção do utilizador, isolando os componentes das variáveis ambientais. O dispositivo está totalmente protegido contra sobrecarga, arco e curto-circuito. Fornece funções de programação e monitorização de controlo remoto. Permite a medição passiva exacta da saída de alta tensão. USB2.0 opcional, porta de rede, comunicação digital RS-232, RS485, podem ser personalizados de acordo com os requisitos do utilizador.
APLICAÇÃO TÍPICA
Micro ótica
Litografia de semicondutores
Máquina de exposição de semicondutores
Máscara
ESPECIFICAÇÃO
Tensão de entrada:
Interruptor opcional
Regulação da tensão: ±0,001% da tensão nominal dentro da gama de tensão de entrada especificada
Regulação da carga:
≤20V, a corrente muda de 25μA para 60μA e de 60μA para 25μA
ondulação: Valor de pico a pico≤70mV
Micro descarga de alta tensão: Menos de 200mV
estabilidade: Após 6 horas de pré-aquecimento, 0,001% a cada 8 horas, a temperatura é de 20 ℃ ± 0,2 ℃
Coeficiente de temperatura: 25ppm por grau Celsius na faixa de 10 ° C a 40 ° C
Ambientais:
Temperatura de funcionamento: 0 a 40 graus Celsius
Temperatura de armazenamento: -40 a 85 graus Celsius
Humidade: 10 a 90% HR, sem condensação
Arrefecimento: Arrefecimento por convecção
Painel frontal:
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