Máquina de deposição PVD RTSP1000
PECVDpor pulverização catódica de magnétronpor evaporação par arco

máquina de deposição PVD
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Características

Método
PVD, PECVD
Tecnologia
por pulverização catódica de magnétron, por evaporação par arco, assistida por feixes de íons
Tipo de deposição
de camadas finas, para revestimento de carbono diamante
Outras características
a vácuo
Aplicações
para a indústria da microeletrônica, para painel solar fotovoltaico

Descrição

O campo fechado desequilibrou o magnétron que engasga o sistema do depósito, magnétron desequilibrado que engasga o chapeamento do íon Os processos desequilibrados e fechados do magnétron do campo têm todas as vantagens de magnétrons planares. As vantagens e as desvantagens adicionais são: -Bombardeio adicional do íon tendo por resultado filmes densos, aderentes -Assistência do íon e limpeza da carcaça possível -Tribológico melhorado, desgaste e filmes resistentes à corrosão -Favorável aos filmes multilayer, do superlattice, os nanolaminant e do nanocomposite -Uso de materiais mais pobre -Configuração/despesa mais complexas do cátodo Magnétron desequilibrado e fechado do campo que engasga as propriedades revolucionadas realizáveis pelo magnétron que engasga processos. Como bem sucedido com o filme fino melhorado tribológico, a resistência de corrosão e as propriedades óticas como esta tecnologia eram, melhorias na tecnologia do magnétron tinham começado apenas. Blogue que seguinte nós nos movemos em aplicações do filme fino girando e cilíndrico dos processos e resultar do magnétron.

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