Máquina de deposição PVD RTES1600
por pulverização catódica de magnétronpor evaporação térmicade camadas finas

Máquina de deposição PVD - RTES1600 - Shanghai Royal Technology Inc. - por pulverização catódica de magnétron / por evaporação térmica / de camadas finas
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Características

Método
PVD
Tecnologia
por pulverização catódica de magnétron, por evaporação térmica
Tipo de deposição
de camadas finas, de filme metalizado
Outras características
a vácuo
Aplicações
para a indústria da microeletrônica

Descrição

Eletro interferência magnética que protege Metalizer, IEM que protege o equipamento do revestimento, máquina de revestimento condutora do filme de PVD IEM: O revestimento da interferência eletromagnética é projetado especialmente para que bonde e os dispositivos eletrónicos evitem da interferência de eletromagnético. Suas condutibilidade alta e interferência alta do magnetc que protegem propriedades são amplamente utilizadas em dispositivos da telecomunicação, em computadores, em produtos eletrónicos de consumo, nos dispositivos do aparelho eletrodoméstico, os aeroespaciais e os militares O tratamento de superfície shileding do IEM foi aplicado com indústria do telefone celular por anos. Nossos clientes são: Sumgsung, Iphone, Lenovo, telefones de Huawei fabrica. Eletro interferência magnética que protege características de Metalizer 1) Apropriado para plásticos, cerâmica, vidro e metal, surge o depósito, 2) O gabarito & a cremalheira do duo projetaram a estrutura, produtividade alta 3) Velocidade de depósito alta, 4) Boa uniformidade & controle de espessura de revestimento exato 5) Adesão excelente IEM que protege propriedades do revestimento do filme Espessura de filme: 1,5 ~ 3 mícrons dependem da exigência. Resistência do filme: (ohm) melhor do que 0.5Ω Adesão: fita 3M810 > 5B

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