Máquina de deposição a vácuo RT-Multi950
PVDPECVDpor pulverização catódica

Máquina de deposição a vácuo - RT-Multi950 - Shanghai Royal Technology Inc. - PVD / PECVD / por pulverização catódica
Máquina de deposição a vácuo - RT-Multi950 - Shanghai Royal Technology Inc. - PVD / PECVD / por pulverização catódica
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Características

Método
PVD, PECVD
Tecnologia
por pulverização catódica, por evaporação par arco, assistida por feixes de íons
Tipo de deposição
de camadas finas de silício, de camadas finas de hidrófobos, para revestimento de carbono diamante
Outras características
a vácuo
Aplicações
para painel solar fotovoltaico

Descrição

Propriedades da máquina Multi950: Pegada compacta, Projeto modular padrão, Flexível, Seguro, Câmara Octal, estrutura de porta 2 para o bom acesso, Processos de PVD + de PECVD. Características de projeto: 1. Flexibilidade: O arco e os cátodos engasgar, flanges de montagem da fonte de íon são estandardizados para a troca flexível; 2. versatilidade: pode depositar a variedade de metais baixos e de ligas; revestimentos óticos, revestimentos duros, revestimentos macios, filmes compostos e filmes de lubrificação contínuos nas carcaças metálicas e não metálicas dos materiais. 3. projeto direto: estrutura de porta 2, parte dianteira & abertura traseira para a manutenção fácil. A máquina Multi950 é um sistema personalizado do depósito de vácuo das funções do múltiplo para o R&d. Com discussão do meio ano com a equipe de universidade de Shanghai leaded pelo professor Chen, nós confirmamos finalmente o projeto e as configurações para cumprir o seu aplicações do R&D. Este sistema pode depositar o filme transparente de DLC com processo de PECVD, revestimentos duros em ferramentas, e o filme ótico com engasgar o cátodo. Baseado neste conceito de projeto piloto da máquina, nós desenvolvemos outros 3 sistemas de revestimento após então: 1. Revestimento bipolar da placa para os veículos bondes FCEV1213 de Fuel Cell, 2. cerâmico dirija o cobre chapeado DPC1215, 3. sistema flexível RTSP1215 engasgar.

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