Máquina de deposição PVD RTSP1215-MF
de nano-partículaspara eletrônicapara iluminação

Máquina de deposição PVD - RTSP1215-MF - Shanghai Royal Technology Inc. - de nano-partículas / para eletrônica / para iluminação
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Características

Método
PVD
Tipo de deposição
de nano-partículas
Aplicações
para eletrônica, para iluminação

Descrição

O modelo de máquina de PVD: RTSP1215-MF é projetado e desenvolvido depositar o revestimento do ouro da lata na placa de circuito de cobre. O filme fino da lata gerado no ambiente do vácuo alto, que aumentou altamente a uniformidade e a pureza. Características de projeto de cobre da máquina do revestimento da lata PVD da placa de circuito: 1. a câmara 8-sides com igual faz sob medida as flanges de montagem, que podem montar e para trocar a fonte de íon e os cátodos ou do arco os cátodos engasgar baseados flexiblely nos processos do revestimento exija. 2. Design compacto que ocupam somente 20sqm; 3. A fonte de íon para o pré-tratamento e o Íon-feixe da limpeza do plasma ajudou ao depósito a aumentar a adesão do filme. 4. O pacote alto da velocidade de bombeamento e a configuração estável, magneticamente as bombas moleculars da suspensão podem ser montados em todo o sentido. Especificações de cobre da máquina de revestimento da lata PVD da placa de circuito Estrutura A máquina de revestimento do vácuo contém o sistema da chave terminado alistado abaixo: 1. Câmara de vácuo 2. Sistema de bombeamento do vácuo de Rouhging (pacote da bomba do revestimento protetor) 3. Sistema de bombeamento do vácuo alto (magneticamente bomba molecular da suspensão) 4. Sistema bonde do controle e da operação 5. Sistema da facilidade de Auxiliarry (subsistema) 6. Sistema do depósito

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