Máquina de deposição PVD RTSP1000
PECVDpor pulverização catódica de magnétronassistida por feixes de íons

Máquina de deposição PVD - RTSP1000 - Shanghai Royal Technology Inc. - PECVD / por pulverização catódica de magnétron / assistida por feixes de íons
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Características

Método
PVD, PECVD
Tecnologia
por pulverização catódica de magnétron, assistida por feixes de íons
Tipo de deposição
de camadas finas
Outras características
a vácuo
Aplicações
para a indústria da microeletrônica, para aplicações fotovoltaicas, para optoeletrônica, para uso médico

Descrição

A Royal tecnologia desenvolveu cátodos de pulverização de alto rendimento e alta utilização de alvo, especialmente para pulverização de metais raros e caros: Au Gold, Ta Tantalum, deposição de filmes de metal prata Ag. O sistema de deposição do filme de alta uniformidade tem servido a vários setores, como peças eletrônicas, componentes de instrumentos médicos que exigem alta uniformidade do filme e deposição de múltiplas camadas. Os processos de magnetrons desequilibrados e de campo fechado têm todas as vantagens dos magnetrons planares. Vantagens e desvantagens adicionais são: Bombardeio de íons adicional, resultando em filmes aderentes e densos Possível assistência iônica e limpeza de substrato Filmes tribológicos, desgaste e corrosão aprimorados Amenable a películas multicamada, superlattice, nanolaminant e nanocompósitos Menor uso de materiais Configuração / despesa de catodo mais complexa

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