Máquina de deposição PVD RTSP1000-Tantalum
por pulverização catódica de magnétronde camadas finasa vácuo

Máquina de deposição PVD - RTSP1000-Tantalum - Shanghai Royal Technology Inc. - por pulverização catódica de magnétron / de camadas finas / a vácuo
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Características

Método
PVD
Tecnologia
por pulverização catódica de magnétron
Tipo de deposição
de camadas finas
Outras características
a vácuo
Aplicações
para a indústria da microeletrônica, para optoeletrônica, para o setor automotivo, para aplicações fotovoltaicas, para painel solar fotovoltaico, para capacitor

Descrição

O tântalo é mais utilizado na indústria eletrônica como revestimento protetor devido à sua boa resistência à erosão. Formulários 1. Indústria de microeletrônica, uma vez que os filmes podem ser reativamente pulverizados e, portanto, a resistividade e o coeficiente de resistência de temperatura podem ser controlados; Instrumentos médicos como implantes corporais por sua propriedade de alta biocompatibilidade; Revestimentos em peças resistentes à corrosão, como poços termométricos, corpos de válvula e fixadores; O tântalo pulverizado também pode ser usado como uma barreira eficaz de resistência à corrosão se o revestimento for contínuo, defeituoso e aderente ao substrato que se pretende proteger. Vantagens - Um carrinho padronizado é aplicado, o que permite o carregamento / descarregamento fácil e seguro dos suportes de substrato e peças de trabalho dentro / fora da câmara de deposição. - O sistema é travado com segurança para evitar operação incorreta ou práticas inseguras. - Os aquecedores de substrato são fornecidos montados no centro da câmara, termopar controlado por PID para alta precisão, para melhorar a adesão do filme condensado. - Configurações fortes de bombas de vácuo com bomba molecular de suspensão magnética via válvula gaveta conectada à câmara; apoiado com bomba de raízes de Leybold e bomba de palheta rotativa de dois estágios, bomba mecânica. -Fonte de plasma ionizado de alta energia é aplicada com este sistema para garantir a uniformidade e densidade.

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