Máquina de deposição PVD RT-R2R-SP
por pulverização catódica de magnétronassistida por feixes de íonsde camadas finas de hidrófobos

máquina de deposição PVD
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Características

Método
PVD
Tecnologia
por pulverização catódica de magnétron, assistida por feixes de íons
Tipo de deposição
de camadas finas de hidrófobos
Outras características
a vácuo
Aplicações
para a indústria da microeletrônica, para aplicações fotovoltaicas, para painel solar fotovoltaico, para optoeletrônica, para capacitor, para filme condutor

Descrição

Nós somos satisfeitos propor que nossas MultiWeb-séries rolem para rolar o vácuo que engasga o Coater da Web para cumprir suas exigências do depósito da multi-camada. Baixas-e aplicações do Coater da Web do filme: papel eletrônico, circuitos flexíveis, tiras fotovoltaicos, médicas, RFID (identificação da radiofrequência) e baixo-e filme. FILMES DO DEPÓSITO 1. material da carcaça: ANIMAL DE ESTIMAÇÃO, PENA, PES, PI, PC, PA,… Filmes 2. espessura da carcaça: 15~300μm 3. métodos do depósito: C.A. reativa para SiO2 (dielétrico); C.C. pulsada para ITO (metal & condutor) 4. condutor TCO do óxido: ITO, AZO, IZO… 5. condutor do metal: Al, Cu, Mo, AG… 6. filme ótico: Ta2O5, Nb2O5, SiO2, TiO2… 7. semicondutor: ZnO, InGaZnO… 8. isolador: SiO2, SiNx, AlOx, AlNx… 9. uniformidade: ±5% através da Web

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