Máquina de deposição PVD RTAS1000
por pulverização catódica de magnétronde camadas finasa vácuo

Máquina de deposição PVD - RTAS1000 - Shanghai Royal Technology Inc. - por pulverização catódica de magnétron / de camadas finas / a vácuo
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Características

Método
PVD
Tecnologia
por pulverização catódica de magnétron
Tipo de deposição
de camadas finas
Outras características
a vácuo
Aplicações
para o setor automotivo, para uso médico

Descrição

Engasgar do magnétron é amplamente utilizado depositar metais refratários como o tântalo, o titânio, o tungstênio, o nióbio, que exigiriam altas temperaturas mesmas do depósito, e metais preciosos: O ouro e a prata e qual são usados igualmente para o depósito de uns metais mais de baixa temperatura de fusão dos pontos como o cobre, alumínio, níquel, o cromo etc. O tântalo é usado mais na indústria eletrônica como um revestimento protetor devido a sua boa resistência à erosão. Aplicações do filme fino do tântalo Sputtered: 1. a indústria da microeletrônica como os filmes podem reactivamente ser engasgados e assim o coeficiente da resistividade e de temperatura da resistência podem ser controlados; Instrumentos médicos como implantes do corpo para sua altamente propriedade do biocompatability; Revestimentos em partes resistentes à corrosão, tais como thermowells, corpos de válvula, e prendedores; O tântalo engasgado pode dever igualmente ser usada como uma barreira eficaz da resistência de corrosão se o revestimento é contínuo, defected e é aderente à carcaça é pretendido proteger.

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