Máquina de deposição PVD DPC1215
por pulverização catódica de magnétronpor evaporação térmicade filme metalizado

máquina de deposição PVD
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Características

Método
PVD
Tecnologia
por pulverização catódica de magnétron, por evaporação térmica
Tipo de deposição
de filme metalizado
Outras características
a vácuo
Aplicações
para a indústria da microeletrônica, para eletrônica

Descrição

O tanoeiro da eletrônica que engasga o sistema/eletrônica militar lasca diretamente o cobre de chapeamento que engasga o equipamento Magnétron do tanoeiro que engasga a planta de revestimento na eletrônica militar O cobre de chapeamento direto do processo do DPC é uma tecnologia avançada do revestimento aplicada com diodo emissor de luz/semicondutor/indústrias eletrônicas. Uma aplicação típica é cerâmica irradiando a carcaça. O depósito condutor do filme do tanoeiro em Al2O3, AlN, si, as carcaças de vidro por PVD limpa engasgar a tecnologia, comparada com os métodos de fabricação tradicionais: DBC LTCC HTCC, as características: 1. Abaixe muito custos de gastos de fabricação. 2. Desempenho térmico proeminente da gestão e da calor-transferência 3. Projeto exato do alinhamento e do teste padrão, 4. Densidade alta do circuito 5. Bons adesão e solderability A equipe real da tecnologia ajudou a nosso cliente desenvolveu o processo do DPC com sucesso com PVD que engasga a tecnologia. Devido a seu desempenho avançado, as carcaças do DPC são amplamente utilizadas em várias aplicações: Diodo emissor de luz do brilho alto para aumentar o tempo da longa vida devido a seus desempenho da irradiação térmica de calor elevado, equipamento do semicondutor, comunicação sem fio da micro-ondas, eletrônica militar, várias carcaças do sensor, espaço aéreo, transporte railway, poder da eletricidade, etc. O equipamento de RTAC1215-SP é projetado exclusivamente para o processo do DPC que obtêm a camada do tanoeiro em carcaças. Este equipamento utiliza o princípio físico do depósito de vapor de PVD,

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