Máquina de deposição PVD CsI950
por evaporação par arcode filme metalizadoa vácuo

Máquina de deposição PVD - CsI950 - Shanghai Royal Technology Inc. - por evaporação par arco / de filme metalizado / a vácuo
Máquina de deposição PVD - CsI950 - Shanghai Royal Technology Inc. - por evaporação par arco / de filme metalizado / a vácuo
Máquina de deposição PVD - CsI950 - Shanghai Royal Technology Inc. - por evaporação par arco / de filme metalizado / a vácuo - imagem - 2
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Características

Método
PVD
Tecnologia
por evaporação par arco
Tipo de deposição
de filme metalizado
Outras características
a vácuo, óptica
Aplicações
para uso médico

Descrição

O sistema do depósito de vácuo CsI950 alto é projetado exclusivamente para CsI e metalização de TII em telas de cintilação em um ambiente do vácuo extremamente alto. Os scintillators de CsI 200~600µm em escalas da espessura com uniformidade alta do desempenho da espessura e do brilho: Definição espacial alta Ultra- da imagem latente; Resposta rápida para a imagem latente mais afiada; Áreas principais da imagem da borda-à-borda da classe; Ótico absorva camadas ou camadas do refletor; Baixa dose paciente do raio X. Carcaças aplicadas: Vidro de TFT, placa da fibra ótica, placa do Amorfo-carbono, placa de alumínio Aplicação: para o controlo de segurança e a inspeção, a educação da física do de alta energia, detecção nuclear do radiaton e imagens latentes médicas: exame da caixa, mamography, oral inter e panorâmico dentais.
* Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.