Sistema de aplicação de revestimento a vácuo G4000MR

O sistema de revestimento por vácuo G4000MR é um revestidor à escala de produção concebido para produzir revestimentos reflectores e protectores uniformes em artigos ópticos de grandes dimensões, incluindo espelhos primários astronómicos. Engenharia e Tecnologia A configuração da máquina de revestimento e as características do processo de deposição são desenvolvidas especificamente para processar artigos até 4 metros de diâmetro com pequenos magnetrões controlados por software que se deslocam ao longo de um percurso calculado a uma velocidade ajustável. A velocidade de movimento dos magnetrões e a velocidade de rotação do espelho são combinadas para obter uma espessura de revestimento excecionalmente uniforme. O espelho é posicionado com a face para baixo e é rodado várias vezes durante o ciclo. O G4000MR destina-se a depositar revestimentos de reflexão de alumínio, prata e outros metais. A camada de óxido de silício no topo do revestimento de reflexão assegura características de proteção resistentes ao desgaste da pilha de revestimento. Antes da deposição do revestimento, a face do espelho é tratada a plasma com uma fonte de iões móvel para garantir uma boa aderência. O revestimento é depositado através de processos de pulverização catódica com magnetrões metálicos e reactivos. Os magnetrões circulares são alimentados por fontes de corrente contínua pulsada. Para controlar a taxa de deposição da película fina em crescimento, são utilizados dispositivos baseados em ressonadores de cristal de quartzo. O vácuo necessário para o revestimento é assegurado por crio-bombas frigoríficas e uma turbo-bomba ligada ao ventilador Roots e a bombas de compressão a seco. O sistema de controlo assegura um processo totalmente automatizado. A máquina de revestimento e o processo de revestimento podem ser personalizados de acordo com os requisitos do respetivo cliente. Substrato: espelhos de vitrocerâmica astronómica de grandes dimensões Diâmetro do substrato: até 4 m Número de substratos: 1 unidade.