Sistema de posicionamento de 3 eixos 782459:003.26
automáticopara inspeção de wafers e metrologiapara a indústria dos semicondutores

sistema de posicionamento de 3 eixos
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Características

Número de eixos
de 3 eixos
Construção
automático
Aplicações
para inspeção de wafers e metrologia, para a indústria dos semicondutores, para preparação de amostras
Outras características
compacto, com motor linear, com mancais aerostáticos, alta precisão
Repetibilidade

0,4 µm, 0,7 µm

Carga

0,5 kg, 10 kg, 28 kg
(1,1 lb, 22,05 lb, 61,73 lb)

Curso

3 mm, 5 mm
(0,12 in, 0,2 in)

Velocidade

20 mm/s, 100 mm/s

Descrição

Alinhador 3D plano MP700-3 Personalizável: - Ideal para o alinhamento de alta precisão de grandes substratos, máscaras, quadros - Adequado para amostras grandes com uma abertura de 730 x 730 mm - Elevada repetibilidade até 0,4 µm / ± 0,0002° para cargas até 28 kg - Design ultra plano de 990 x 1090 x 225 mm - Baixa manutenção e baixo teor de partículas por rolamento de ar e acionamento direto Com este alinhador, são efectuados movimentos de translação secundários de ± 5 mm no plano e uma rotação em torno da vertical de ± 3°. O movimento R (Phi) é o resultado da combinação de eixos XY. Especificações: - Curso: ± 5 mm (XY) / ± 3 mm (Rz) - Repetibilidade: ± 0,4 - ± 0,7 µm (XY) / ± 0,0002 - ± 0,0003 µm (Rz) - Velocidade de posicionamento: 50 - 100 mm/s (XY) / 10 - 20 mm/s (Rz) - Carga máxima: 5 N (XY) / 100 N (Rz) - Abertura: 730 x 730 mm - Motor: Motor linear dinâmico sem ferro (XYRz) - Guia: Rolamento de ar (XYRz) - Feedback: Codificador Linear (XYRz) - Comprimento x largura x altura: 990 x 1090 x 225 mm - Material: Alumínio anodizado Opções personalizadas: - Adaptação ao processo: abertura, suporte, alimentador, extensão do Z-Motion - Configuração para sala limpa ISO 14644-1 (até classe 1 a pedido) - Conceção individual com bastidor, isolamento de vibrações, caixa - Desenvolvimento de soluções individuais com design 3D para a tarefa de posicionamento

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