Sistema de posicionamento XYZ 782327:001.26
triaxiallinearpara inspeção de wafers e metrologia

Sistema de posicionamento XYZ - 782327:001.26 - Steinmeyer Holding GmbH - triaxial / linear / para inspeção de wafers e metrologia
Sistema de posicionamento XYZ - 782327:001.26 - Steinmeyer Holding GmbH - triaxial / linear / para inspeção de wafers e metrologia
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Características

Número de eixos
XYZ, triaxial
Construção
linear
Aplicações
para inspeção de wafers e metrologia, para preparação de amostras, para controle da qualidade
Outras características
compacto, de precisão, com motor CC
Repetibilidade

MÁX: 3,8 µm

MÍN: 0,8 µm

Carga

1 kg
(2,2 lb)

Curso

MÁX: 25 mm
(0,98 in)

MÍN: 25 mm
(0,98 in)

Velocidade

MÁX: 3,6 mm/s

MÍN: 1,8 mm/s

Descrição

Sistema de posicionamento XYZ MP210-3 Personalizável: - Ideal para espaço de instalação limitado e temperaturas flutuantes de 0 - 40°C - Alcances de deslocação até 25 mm num espaço mínimo - Estabilidade absoluta da posição, mesmo quando o motor está desligado - Resultados de medição consistentes devido à elevada repetibilidade Este sistema XYZ permite o posicionamento de um suporte de amostras para medições de luz incidente e transmitida de dupla face altamente estáveis. O carregamento e a focagem são efectuados através de um movimento vertical com um curso de 25 mm. Especificações: - Sistema padrão: MT63 (XYZ) - Curso: 25 mm - Repetibilidade: ± 0,8 - ± 3,8 µm (XYZ) - Velocidade de posicionamento: 1,8 - 3,6 mm/s (XYZ) - Carga máxima: 10 N - Motor: Motor DC, - Parafuso de avanço - Feedback: Escala linear - Comprimento x largura x altura: 206 x 259 x 137 mm Opções personalizadas: - Adaptação ao processo: amostra, suporte, alimentador, sensor - Configuração para sala limpa ISO 14644-1 (até classe 1 a pedido) - Design individual com rack, isolamento de vibração, gabinete - Desenvolvimento de soluções individuais com design 3D para a tarefa de posicionamento

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