MDT85-PM
Estágios lineares e eixos em vácuo / sala limpa
- Sala limpa: variantes até à classe ISO 6 (superior a pedido)
- Vácuo: todas as gamas HV / UHV
- Feixe: UV / DUV / EUV
- Lubrificação: líquida até 10-8 / seca até 10-11 mbar
- Temperatura máx. Temperatura máxima de cozedura: 140°C
Opções:
- Com ou sem abertura (Ø 25 mm)
- Empilhável num sistema de posicionamento compacto de 3 eixos
- Magnetismo: magnético, de baixo magnetismo, sem magnetismo
- Lubrificação EUV, lubrificação UHV sem farinha / sem PFAS
- Desenvolvimento personalizado com design 3D, protótipos, produção em série
Campos de aplicação
Posicionamento em pequenas dimensões na sala limpa EUV, por exemplo, câmara, microscópio / sensor (AFM, WLI), medições de transiluminação, posicionamento de microscopia, configuração de sistemas multi-eixos XYZ com economia de espaço, manipulador para a indústria e investigação, sistemas compactos de posicionamento em salas limpas, alinhamento de semicondutores, inspeção de feixes
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