Sistema de posicionamento multieixos 782300:212.26
linearrotativopara aplicações ópticas

Sistema de posicionamento multieixos - 782300:212.26 - Steinmeyer Mechatronik GmbH - linear / rotativo / para aplicações ópticas
Sistema de posicionamento multieixos - 782300:212.26 - Steinmeyer Mechatronik GmbH - linear / rotativo / para aplicações ópticas
Sistema de posicionamento multieixos - 782300:212.26 - Steinmeyer Mechatronik GmbH - linear / rotativo / para aplicações ópticas - imagem - 2
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Características

Número de eixos
multieixos
Construção
linear, rotativo
Aplicações
para aplicações ópticas
Outras características
com motor CC, de alta resolução, com fuso de esferas, com servoacionamento, com controlador

Descrição

X Sistema Phi para o posicionamento de lentes ópticas, cilindros, p.ex., medidor de estilete | X motor DC, parafuso de esferas, rolo transversal, sistema de medição linear | Servo AC Phi, sistema de medição angular Excelente estabilidade para enormes resoluções Este sistema de posicionamento X-Phi consiste em eixos padrão de alta precisão e durabilidade do estágio linear PMT160 e, para rotação, o DTS130-HM. É ideal para aplicações de medição nas quais a amostra é movida precisamente para a posição de medição e, portanto, não é necessário nenhum eixo de alimentação adicional. Resultados de medição altamente precisos e fiáveis - Ideal para medição óptica de peças redondas, por exemplo bolachas, ópticas - Poupa a compra adicional de um eixo de carga devido a movimentos rotativos de alta precisão com curso - Repetibilidade elevada até 0,0017 - Move 1,9 µm precisamente com X para a posição de medição Opcionalmente configurável: - Viagens até 300 mm - Placa de base em granito ou alumínio - Disponível com escala interna (270 mm) - Pode ser combinado com outras fases rotativas, por exemplo DT200 - Versões possíveis para sala limpa ISO 14644-1 - Utilização imediata com controlador pré-configurado incl. software exemplar

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