Sistema de posicionamento sob alto vácuo LA80-2LA95
multieixosde 3 eixosXY

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Características

Número de eixos
multieixos, de 3 eixos, XY, XZ, YZ
Construção
linear, vertical, horizontal
Aplicações
de feixes óticos, para inspeção de wafers e metrologia, para a indústria dos semicondutores, a vácuo, para aplicações higiênicas, para sala limpa, para alinhamento geométrico
Outras características
compacto, módulos combinados, para placas de granito, sob alto vácuo, de rolamentos de rolos cruzados, com motor de passo

Descrição

Sistema rápido de 3 eixos UHV LA80-LA90 UV / UHV / EUV, max. 500 mm de percurso, 2 µm de repetibilidade, 5 kg de carga Esta fase de transferência rápida é adequada para aplicações precisas, rápidas e de longa duração em vácuo ultra-alto. Também satisfaz os requisitos para utilização sob radiação ultravioleta extrema devido à sua emissão muito baixa e baixa contagem de partículas. Os eixos estão disponíveis nos tamanhos LA80, LA95, LA170 e são concebidos para cargas até 20 kg em funcionamento vertical. Esta combinação de eixos foi desenvolvida como parte do "tOMography Nano crYo (OMNY)" mit dem Paul Scherrer Institut (PSI). Preciso, rápido e durável em vácuo ultra-alto - Vácuo: todas as gamas HV / UHV / EUV até 10E-11 mbar - Líquido de lubrificação até 10E-8 / secar até 10E-11 mbar - Tempo de vida no intervalo de quilómetros sem lubrificação líquida - Máx. Temperatura de cozedura: 120°C - Disponível como versão magnética Optionen: - Viagens especificamente adaptáveis à sua aplicação até 510 x 80 x 80 mm - Sem feedback como sistema de motor passo-a-passo puro até 5 µm de repetibilidade - Paragem extraordinária na gama de nanómetros devido a travões piezoeléctricos adicionais em Z e Y - Fuso de esferas em Z e Y para maior velocidade e maior durabilidade com lubrificação - Versões para sala limpa ISO 14644-1 classe 4 (até à classe 1, a pedido) Referências OMNY-A tOMography Nano crYo stage | Review of Scientific Instruments 89, 043706 (2018) | https://doi.org/10.1063/1.5020247

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