A produção comprovada Titan Deposition é um sistema de deposição sem carga com um elevador de cassete a vácuo. Pode ser configurado para PECVD, HDCVD, PVD ou ALD. O Titan Deposition oferece processos inovadores e de vanguarda em uma pegada pequena a um preço acessível.
Foram desenvolvidos processos de produção padrão para a deposição repetitiva de SiOx, SiNx, SiC e a-Si. Tudo apoiado por mais de 25 anos de experiência em desenvolvimento rápido de processos.
Características do Sistema:
Controle PLC e touch screen
Chuck eletrostático ou mecânico
Controle ativo da temperatura do substrato
Elevador de Cassete a Vácuo
Laser opcional e terminais ópticos
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