Gerador de plasma com corrente de impulso contínua TruPlasma Highpulse 4000 (G2)
PVD

Gerador de plasma com corrente de impulso contínua - TruPlasma Highpulse 4000 (G2)  - TRUMPF Power electronics - PVD
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Características

Velocidade de secagem
com corrente de impulso contínua, PVD

Descrição

Os geradores TruPlasma Highpulse Série 4000 (G2) podem ser usados nos sistemas existentes de magnétron sem modificações como alternativa aos geradores de pulverização catódica de CC. Eles proporcionam revestimentos de materiais rígidos especialmente resistentes à corrosão e desgaste e são, por isso, a primeira opção para aplicações de High Power Impulse Magnetron Sputtering. Resultados de revestimento perfeitos Potências de pico perfeitas de até 4 Megawatt geram densidades de plasma extremas com fluxos de íons altos. Aplicação flexível O ajuste simples aos sistemas de cátodos existentes e condições de processo permite uma integração ideal entre equipamentos. A primeira opção para aplicações HiPIMS Como mais recente desenvolvimento em processos de pulverização catódica de deposição física de vapores (PVD), o HiPIMS oferece revestimentos de material rígido resistentes à corrosão e ao desgaste. Para várias aplicações Utilizável também em modo CC, não é necessário um gerador de corrente contínua adicional.

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