Analisador de gases de processo QULEE RGM series

de monitoramentode processode pressão

SISTEMA DE MONITORAMENTO REATIVO DE GÁS DE PROCESSO - SÉRIE QULEE RGM Este sistema de monitoramento de processos foi desenvolvido para vários tipos de aplicações, como etch, CVD e outros processos de gases reativos. O uso da fonte de íons original da ULVAC e do sistema de bombeamento permite que você obtenha resultados de medições estáveis.Most Appropriate for Etching/CVD Apparatus Resultados de medições estáveis a longo prazo Fonte de Iões Fechada Utilizando um Campo Magnético A ionização suave proporciona menos dissociação de gás e maior sensibilidade. Decomposição e adsorção devido a reações térmicas são minimizadas na câmara de ionização. Válvula de condutância compacta com 3 modos diferentes de entrada de gás A curta distância entre a câmara de processo e a fonte de íons permite resposta rápida da análise. Adequado para monitorização de processos Ampla faixa de pressão de 1×10-6 a 13kPa (7.5×10-9 a 97.5 Torr, 1×10-8 a 130mbar) está disponível. (Escolha dos orifícios) Visor integrado Sem necessidade de PC Operação simples "Função "Um clique Assar Max 120˚C (248˚F) Assar a alta temperatura Função Desgás Bombardeiro electrónico degas Feautures de Proteção e Manutenção Protecção e manutenção da fonte iónica e do electrão secundário multiplicador Rastreabilidade do tubo de análise (patente pendente) Vários testes de vazamento estão disponíveis Teste de fuga de hélio, teste de fuga de ar, fuga de ar Medição de Pressão Total Capazes de medir a pressão total (manómetro de ionização externo (GI-M2) Qulee QCS está incluído Este software está incluído e é compatível com (Windows XP/7)