Máquina de deposição PVD NEXUS PVD-1

por evaporação térmicade camadas finaspara optoeletrônica

O NEXUS PVD-1 da Veeco é um sistema de deposição de vapor físico de wafer único. É uma ferramenta versátil e fácil de usar para múltiplas aplicações. Garante simplicidade, confiabilidade e desempenho em qualquer operação. O sistema pode ser feito sob medida para múltiplas aplicações de armazenamento de dados como deposição de óxido e nitreto e variedade de materiais magnéticos. Ele pode ser adquirido com uma ampla variedade de tamanhos de wafer e uma ferramenta de alto desempenho e econômica para aplicações em semicondutores, GaAs e embalagens. Este sistema de deposição física de vapor pode ser facilmente moldado para atender a requisitos específicos de processo e produção. Suporta diferentes tamanhos de wafer de 3" a 8" redondo. O pacote completo inclui cátodos, mandris de wafer, coletores de gás, persianas e pacotes de bombeamento. É projetado para integração simples e rápida com NEXUS Ion Beam Etch, Ion Beam Deposition e outras ferramentas de deposição física de vapor. A modularidade fornecida simplifica as solicitações de treinamento do operador e de manutenção, bem como a estocagem de peças de reposição.