Mesas de coordenadas para manipulação de wafers Steinmeyer

Curso: 1 mm - 40 mm
Velocidade: 1 mm/s - 200 mm/s
Repetibilidade: 0,3 µm - 5 µm

... LA92 Eixo linear UHV de alta velocidade Aplicações: Aplicações de digitalização rápida e de alta resolução Vantagens: Posicionamento rápido em UHV, também verticalmente Características: Excelente resolução, muito fino, com motor interno - ...

Curso: 1 mm - 100 mm
Velocidade: 1 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidade: 0,4 µm - 5 µm

... LT300 Estágio linear preciso de alta carga Aplicações: Estágio de transporte, estágio de varrimento para cargas elevadas Vantagem: Elevado tempo de vida útil apesar da lubrificação a seco Características: parafuso de avanço com lubrificação ...

Curso: 1 mm - 300 mm
Velocidade: 1 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidade: 0,015 µm - 5 µm

... LA97 Estágio linear nanométrico Aplicação: digitalização Vantagem: posicionamento nanométrico, também na vertical Características: posicionamento com extrema resolução e máxima rigidez pode ser equipado com 2 (ou 4) motores - Vácuo: ...

Curso: 1 mm - 185 mm
Velocidade: 1 mm/s - 8,4 mm/s
Repetibilidade: 0,4 µm - 5 µm

... LA95 - Aplicação: fase de transporte, fase de digitalização - Vantagem: vida útil elevada apesar do lubrificante seco - Características: parafuso de avanço com lubrificante seco ou fuso de esferas com lubrificante líquido - ...

Curso: 1 mm - 10 mm
Velocidade: 0,2 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidade: 0,2 µm - 5 µm

... MT53 Microestágio de alta resolução Aplicação: microestágio multiusos Vantagem: para digitalização de alta resolução Características: posicionamento com resolução muito elevada - Vácuo: todas as gamas de pressão HV /UHV até 10E-11 ...

Curso: 1 mm - 50 mm
Velocidade: 1 mm/s - 50 mm/s
Repetibilidade: 0,3 µm - 5 µm

... KT105-50 Estágio XY de alta resolução Aplicação: estágio XY de vácuo Vantagem: rapidez e alta resolução Características: parâmetros de guinada e inclinação três vezes melhores do que a variante com apertur - Vácuo: todas as áreas ...

Curso: 1 mm - 100 mm
Velocidade: 1 mm/s - 10 mm/s
Repetibilidade: 0,4 µm - 5 µm

... acionamento por parafuso de avanço ou por fuso de esferas lubrificado para velocidades mais elevadas - Pode ser combinado com mesas rotativas (por exemplo, DT155) para aplicações rotativas - Seleção de material e lubrificação ...

Curso: 1 mm - 16 mm
Velocidade: 1 mm/s - 2,2 mm/s
Repetibilidade: 1 µm - 5 µm

... HT160 Plataforma de elevação vertical precisa para cargas elevadas Aplicação: plataforma de elevação por vácuo Vantagem: elevada rigidez e carga Características: cunha com fuso de esferas - Vácuo: todas as gamas HV / UHV / EUV até ...

Curso: 1 mm - 16 mm
Velocidade: 1 mm/s - 16,6 mm/s
Repetibilidade: 0,7 µm - 5 µm

... HDT255 Mesa elevatória com grande abertura de carga Aplicação: plataforma elevatória de vácuo Vantagem: - alta rigidez e carga, abertura Características: plataforma em cunha com abertura - Vácuo: todas as gamas HV ...

Curso: 1 mm - 25 mm
Velocidade: 1 mm/s - 3,4 mm/s
Repetibilidade: 0,3 µm - 5 µm

... HT240 Plataforma de elevação vertical precisa para cargas elevadas Aplicação: Plataforma de elevação a vácuo Vantagem: elevada rigidez e carga Características: cunha com fuso de esferas - Vácuo: todas as gamas HV / UHV / EUV até 10-11 ...