Sistemas de posicionamento para aplicações ópticas Steinmeyer

Repetibilidade: 1 µm
Carga: 15 kg
Curso: 200 mm - 1.000 mm

... XYZ Gantry para aplicações altamente dinâmicas Personalizável - Ideal para aplicações dinâmicas e de alta precisão - Grande amplitude de deslocação de 1300 x 800 mm - Acelerações e velocidades ...

Repetibilidade: 0,3 µm - 2,5 µm
Carga: 5 kg - 20 kg
Curso: 100 mm - 720 mm

... semicondutores - Grande raio de deslocação de 2 x 720 x 720 x 100 mm cada - Permite a integração de dois processos em simultâneo Este sistema de inspecção é composto por quatro eixos de sala limpa e permite a medição ...

Repetibilidade: 0,3 µm - 0,5 µm
Curso: 50 mm - 200 mm
Velocidade: 30 mm/s

... Sistema de posicionamento XYZ para inspeção ótica automatizada de alta precisão Personalizável: - Ideal para processos de inspeção automatizados de alta precisão - Elevada ...

Repetibilidade: 0,3 µm - 0,4 µm
Curso: 100 mm - 200 mm
Velocidade: 15 mm/s - 25 mm/s

... perfeita de ± 1 para o posicionamento de cargas médias até 150 N Esta combinação XY com unidade vertical Z separada consiste nos eixos lineares padrão de alta precisão e duráveis do PMT160. Esta combinação ...

Repetibilidade: 0,8 µm - 4 µm
Carga: 1 kg
Curso: 25 mm - 25 mm

... Este sistema X-Y-Z miniaturizado é ideal para aplicações de posicionamento em locais com espaço limitado. Em combinação com um fuso de rosca fina, o XYZ Stage atinge valores de resolução ...

Repetibilidade: 0,001 µm - 3,5 µm
Carga: 6,5 kg
Curso: 4 mm - 20 mm

... sistema de posicionamento XYZ-Theta-Phi-Delta miniatura de 6 eixos (sala limpa ISO 5) Personalizável: - Ideal para inspeção automatizada de wafers e ópticas até 300 mm / 12" - Elevada ...