Sistemas de posicionamento para preparação de amostras Steinmeyer

Repetibilidade: 1 µm
Carga: 15 kg
Curso: 200 mm - 1.000 mm

... linear - Controlador de movimento: Série FMC, ACS, integração PLC Opções personalizadas: - Adaptação ao processo, suporte de amostras, cabeça / sensor - Versões para sala limpa ISO 14644-1 (até à classe 1 a pedido) - ...

Repetibilidade: 0,3 µm - 2,5 µm
Carga: 5 kg - 20 kg
Curso: 100 mm - 720 mm

... por lado é movido em relação à amostra para inspeccionar geometrias, efectuar medições e documentar características especiais de qualidade. Especificações - Curso: 2 x cada 720 x 720 x 100 mm - 2x eixos X cada para scanners ...

Repetibilidade: 0,4 µm - 0,8 µm
Curso: 100 mm - 300 mm
Velocidade: 80 mm/s - 630 mm/s

... 0,4 µm para impressão 3D - Compatível com salas limpas, com elevada durabilidade e longos intervalos de manutenção Este sistema compacto e altamente dinâmico de 3 eixos foi especialmente concebido para a impressão 3D ...

Repetibilidade: 0,4, 0,7 µm
Carga: 28, 10, 0,5 kg
Curso: 3, 5 mm

... MP700-3 Personalizável: - Ideal para o alinhamento de alta precisão de grandes substratos, máscaras, quadros - Adequado para amostras grandes com uma abertura de 730 x 730 mm - Elevada repetibilidade até 0,4 µm / ± 0,0002° ...

Repetibilidade: 0,2 µm - 0,3 µm
Carga: 500 g
Curso: 10 mm

... O sistema de posicionamento MP53 é um sistema miniaturizado de 3 eixos para movimentos X, Y e Z com intervalos de deslocação de 10 mm. O alinhador foi concebido com motores piezoeléctricos ...

Repetibilidade: 0,8 µm - 3,8 µm
Carga: 1 kg
Curso: 25 mm - 25 mm

... está desligado - Resultados de medição consistentes devido à elevada repetibilidade Este sistema XYZ permite o posicionamento de um suporte de amostras para medições de luz incidente ...